师从可溶液加工半导体材料研究领域的创始人之一， “法拉第”奖章得主Henning Sirringhaus教授，在剑桥大学卡文迪许实验室已有6年多的教学和研究经历。 2010年至2014年在英国剑桥大学担任博士生纳米科学与纳米技术培训导师，2014年在剑桥大学获得博士学位，2014年至2016年在剑桥大学卡文迪许实验室任博士后研究员，现任FUNSOM特聘副教授，“苏州大学Henning Sirringhaus分子和纳米光电国际实验室（HSLAB）”的核心PI之一。
办公室：FUNSOM 910楼208B室
办公电话：0512-65882657
研究领域：
半导体光电器件和物理；有机场效应晶体管; 有机和金属氧化物半导体界面特性; 印刷电子学； 光电探测；柔性大面积电子器件。
主要成果和贡献：
在有机半导体中的电荷传输机制研究、混合聚合物/金属氧化物TFT和电路集成的机理研究等方面作出了一系列优秀的研究成果。学术论文主要发表于Advanced Materials和Nature等顶级期刊，关键应用技术已申请国际发明专利。承担或参与过多项顶级的学术科研项目，包括Integration of Printed Electronics with Silicon for Smart Sensor Systems项目（2014-2016），被推举为英国工程和自然科学研究委员会的“旗舰项目”；EPSRC的Charge Transport Physics in High－Mobility Organic Semiconductors项目（2009-2015），欧盟委员会的Printable Organic-Inorganic Transparent Semiconductor Devices项目（2011-2014）等大型国际项目。
研究组情况：
本研究组目前刚刚起步，处在快速发展中。现有硕士生3名。本研究组依托于“苏州大学Henning Sirringhaus分子和纳米光电国际实验室（HSLAB）”，与实验室主任、剑桥大学卡文迪许实验室教授Henning Sirringhaus教授保持密切联系。HSLAB的其他核心成员包括孙宝全教授及其研究团队。
招生方向：
本研究组欢迎物理、化学、和材料方向的优秀学生报考。具有良好英文交流能力、有志出国深造的优先考虑。本研究组与不少世界著名研究机构保持密切合作关系，例如剑桥大学卡文迪许实验室、曼切斯特大学、米兰理工大学。
责任编辑：杨娟