仪器名称

等离子体系统

型号

IoN 40

厂家

德国普发拓普公司

主要规格及技术指标

1.反应腔室：腔体材料铝；尺寸229 mm*330 mm*483 mm；

2.供气系统：两路气；质量流量计（MFC）控制

3.真空系统：预真空50 mTorr；工艺压力120-2000 mTorr

4.射频源：射频频率13.56 MHz；功率0-300 W连续可调

5.控制系统：清洗流程自动控制；

主要功能及应用范围

等离子体去胶机是光刻工艺所必需的辅助设备，在半导体工艺和生物技术方面都有广泛应用。具体应用可归纳为以下几个方面：

等离子体表面改性；有机物表面等离子体清洗；绑定强度增强；等离子体刻蚀应用；等离子体灰化应用；增强或减弱浸润性。

主要附件

干泵

联系人

朱文昌

联系电话

15301453461

E-mail

wczhu@suda.edu.cn